Tamis moléculaire au carbone pour Électronique et semi-conducteurs

Fonctions principales et applications clés

Protection inerte (antioxydation/prévention de l'humidité) : Chimiquement stable, l’azote isole l’oxygène et l’humidité, empêchant ainsi l’oxydation ou la contamination de matériaux sensibles tels que les plaquettes de silicium, les interconnexions métalliques et les résines photosensibles. Les scénarios typiques incluent : le stockage/transport de plaquettes, le revêtement par résine photosensible, le dépôt de couches minces CVD/ALD, le recuit thermique rapide (RTA) et le collage de fils.

Contrôle des processus et gaz vecteur : Il agit comme un gaz vecteur pour transporter les précurseurs, assurant leur distribution uniforme dans la chambre de réaction. Il sert également de gaz de dilution ou de fond pour stabiliser le plasma, réguler les vitesses de réaction et améliorer l'uniformité des couches minces ainsi que la précision du profil de gravure. Les scénarios typiques incluent : CVD/ALD, gravure au plasma et mise en mémoire tampon d’implantation ionique.

Purge et purification : Il purge soigneusement les substances résiduelles des chambres d’équipement et des canalisations pour éviter toute contamination croisée. De plus, il maintient une pression positive dans les salles blanches et établit des barrières protectrices pour rideaux d'air. Les scénarios typiques incluent : la commutation de chambre dans les outils de lithographie/gravure, la commutation de conduite de gaz et le maintien de la pression positive en salle blanche.

Applications auxiliaires et spécialisées : Protéger les puces pendant les processus à haute température ; inhiber l'oxydation de la soudure et améliorer la mouillabilité pendant la refusion SMT et la soudure à la vague ; minimiser l'oxydation de surface pendant le traitement laser ; et fournir un environnement de stockage inerte pour les composants sensibles (tels que les têtes magnétiques et les LED) afin de réduire les taux de défaillance.